孙清清，博士、讲师。2009年6月毕业于复旦大学，获博士学位。2004年9月- 2009年6月:硕博连读，微电子学与固体电子学;复旦大学微电子学系;2000年9月-2004年7月:本科，物理学;复旦大学物理学系;07年-08年之间,德国汉诺威大学电子材料与器件学院访问学者。最近3年来，在Applied Physics Letters等国际权威期刊和会议上发表论文20余篇，其中Applied Physics Letters杂志上以第1作者发表6篇。
研究方向：集成电路工艺和半导体器件
1.纳米CMOS器件先进栅介质;
2.超大规模集成电路低介电常数介质和先进铜互连技术;
3.原子层化学气相淀积(ALD);
4.基于纳米线和纳米管的晶体管;
5.第一性原理计算在微电子学中的应用。